Patentin hakeminen Kiinassa

Patenttia haetaan Kiinan patenttivirastosta (CNIPA, National Intellectual Property Administration, PRC). Järjestelmään kuuluu kolmenlaisia patentteja: keksintöpatentit, hyödyllisyysmallipatentit ja mallipatentit.

  • Keksintöpatentit vastaavat suomalaista patenttia. Niiden uutuus ja keksinnöllisyys tutkitaan CNIPAssa ja suoja-aika on 20 vuotta.
  • Hyödyllisyysmallipatentit vastaavat pääosin suomalaista hyödyllisyysmallia. Niiden suoja-aika on 10 vuotta, eikä niiden keksinnöllisyyttä arvioida myönnettäessä. Suomen käytännöistä poiketen CNIPA voi oma-aloitteisesti tutkia ja tarvittaessa hylätä hyödyllisyysmallihakemuksen uutuuden puuttumisen vuoksi.
  • Mallipatentit ovat vastine suomalaiselle mallisuojalle. Tosin CNIPA ei tutki mallipatenttien uutuutta ja mallipatentin suoja-aika on 10 vuotta.

Kiinan alueella tehdyille keksinnöille ensimmäinen patenttihakemus täytyy tehdä CNIPA:lle tai pyytää CNIPAa tekemään erillinen turvallisuustarkastus ja lupa tehdä ensihakemus toiseen maahan. Kiinassa keksintöä ei voi patentoida, jos se on Kiinan lakien vastainen. Muut patenttisuojan ulkopuolelle suljetut tapaukset vastaavat pääosin suomalaista käytäntöä.


Lue lisää suomalaisesta käytännöstä Patenttikäsikirjasta (pdf, 2,49 Mt) (kohta E.2).

Tarvitset kiinalaisen patenttiasiamiehen

Patentin hakemiseen CNIPAsta suomalainen hakija tarvitsee kiinalaisen patenttiasiamiehen. Jos sinulla on asuin- tai toimipaikka Kiinassa, asiamiehen käyttö ei ole pakollista, mutta erittäin suositeltavaa. Hakemusta tehdessäsi sinun kannattaa kiinnittää erityistä huomiota siihen, että teksti käännetään oikein kiinankielelle. PCT-hakemuksen CNIPAan voit tehdä myös englanniksi. Käsittelyn nopeuttamiseksi kannattaa käyttää hyväksi PPH-sopimusta, jos kiinalaisen hakemuksen etuoikeushakemus on jo hyväksytty PRH:ssa.

Päätöksistä valittaminen

Jos CNIPA hylkää patenttihakemuksen, voit tehdä valituksen CNIPAn valituslautakuntaan (Re-examination board, PRB). Myös myönnettyjä patentteja vastaan tehdyt mitätöintikanteet tehdään valituslautakuntaan. Kiinan patenttijärjestelmään ei kuulu erillistä väiteaikaa, vaan mitätöintikanteen voi tehdä koska tahansa myöntämispäivän jälkeen. Valituslautakunnan päätöksistä voi valittaa edelleen Pekingin oikeusasteisiin (Beijing IP Court ja High People’s Court).

Patenttiriitojen käsittely

Patenttiriidat ratkaistaan Kiinassa joko oikeuskäsittelyssä tai hallinnollisella menettelyllä. Käsittelypaikka valitaan vastaajan asuinpaikan tai loukkauksen tapahtumapaikan perusteella. Hallinnollisessa menettelyssä paikallinen IP-virasto tekee riita-asiasta päätöksen. Käsittely on nopeampi kuin oikeuskäsittely, mutta siinä ei tuomita vahingonkorvauksia.

Hallinnollisen käsittelyn päätöksestä voi valittaa edelleen oikeuteen. Jos loukkauskanteen haluaa nostaa suoraan oikeudessa, ensimmäisenä oikeusasteena patenttiriidoissa on yleensä alueen Intermediate People’s Court, jonka päätöksistä voi valittaa edelleen High People’s Courtiin. Merkittävien tapausten käsittely voidaan aloittaa suoraan High People’s Courtissa, jonka päätöksestä voi valitusluvalla valittaa Kiinan korkeimpaan oikeuteen.

Aikaraja valituksen tekemiseen on Kiinan oikeusjärjestelmässä yleensä hyvin lyhyt, mihin on hyvä varautua jo etukäteen. Kiinan oikeusjärjestelmässä ei ole case law -käytäntöä, kuten ei Suomessakaan. Korkeimman oikeuden päätökset ovat siis ennakkotapauksia, mutta eivät suoraan velvoittavia esimerkiksi CNIPAn käsittelyissä.

Muutoksia oikeusasteissa 2015

Vuoden 2014 lopulla Kiinaan perustettiin kolme IPR-asioihin erikoistunutta oikeusistuinta: Pekingiin, Shanghaihin ja Guangzhouhun. Muutoksen tavoitteena on parantaa oikeuskäsittelyjen laatua ja lyhentää käsittelyaikaa. IP-tuomioistuimet käsittelevät alueellaan kaikki patentteihin, hyödyllisyysmalleihin ja mallisuojiin liittyvät riita-asiat sekä toimivat valitustuomioistuimena paikallisissa tuomioistuimissa käsitellyille tavaramerkki- ja tekijänoikeuskiistoille.

Lisätietoja

CNIPAn englanninkieliset verkkosivut

Liguo Zhang: Introduction to Intellectual Property Protection in China (pdf, 0,66 Mt)

Tulostettava versio
Viimeksi päivitetty 05.09.2018